phénomènes de transport (PSI) · Chapitre 3 · Exercice de TD
Le recuit d'un caisson de silicium : la dose se conserve, la largeur croît en
Diffusion de particules · D. Équation de la diffusion · niveau 2
Énoncé
Après l'implantation, une dose d'atomes de bore occupe une couche très mince à la surface d'une plaquette de silicium épaisse de , uniformément dopée au phosphore à . La surface est couverte d'un oxyde que le bore ne traverse pas. On recuit la plaquette à la température : le bore diffuse avec , où et (valeurs de manuel ; ne dépend pas de la concentration à ces teneurs). On note la profondeur et la densité de bore, et l'on donne ainsi que et .
1) Établir l'équation de la diffusion à une dimension pour . Vérifier que la solution donnée la satisfait, qu'elle respecte la condition imposée par l'oxyde en , et que à tout instant. Pourquoi cette dernière propriété était-elle attendue ? Le milieu peut-il être tenu pour semi-infini ?
2) Calculer la profondeur quadratique moyenne . Commenter.
3) La jonction est la profondeur où la densité de bore égale celle du phosphore. Exprimer en fonction de . À , calculer , puis et après un recuit de .
4) Quelle durée de recuit donne la même jonction à ? À ? Quelle grandeur seule compte ? La plaquette subit plus tard un second recuit de à : montrer que les produits des deux recuits s'ajoutent, et chiffrer l'effet du second. L'implantation ne laisse pas une couche infiniment mince, mais un profil de largeur : est-ce gênant ?
5) Que vaut à ? De combien le bore se déplace-t-il en dix ans de fonctionnement du circuit ?
Corrigé
La stratégie. On vérifie, on ne cherche pas : dérivées de la solution, condition de flux nul, intégrale de la dose. Puis tout se lit sur la variable : seul le produit compte, ce qui fait de la température et de la durée deux leviers interchangeables.
1) Équation, condition, dose. Un bilan sur la tranche , sans source, donne ; avec la loi de Fick et uniforme, . Posons et . D'une part, D'autre part, , puis , et redonne exactement . En , : le flux est nul à la surface, comme l'exige l'oxyde. Enfin, avec : C'était attendu : en intégrant l'équation de à l'infini, ; aucun atome ne sort par l'oxyde ni ne se perd en profondeur. Le recuit redistribue la dose, il ne la change pas. Le milieu est semi-infini dès que la profondeur atteinte, quelques micromètres, est petite devant l'épaisseur de la plaquette () : c'est le cas.
2) La largeur. Avec le même changement de variable, La profondeur quadratique moyenne croît comme : c'est la loi de l'analyse en ordres de grandeur, avec son coefficient exact pour ce profil.
3) La jonction. donne À () : . Après , , , et et . Le logarithme varie lentement : vaut environ fois .
4) Le budget thermique. ne dépend que de (avec et fixés) : la même jonction demande le même . À , et ; à , et : cinquante degrés de plus divisent la durée par trois. Pour l'addition, remarquons que la solution à l'instant est la gaussienne de paramètre ; à la température , c'est aussi l'état qu'atteindrait la couche initiale au bout de la durée . La suite du recuit à prolonge donc cette solution, et après la durée on a la gaussienne de paramètre : les s'ajoutent. Le second recuit ajoute , soit du budget : il ne déplace la jonction que de quelques millièmes de sa profondeur. De même, un profil initial de largeur est la gaussienne qu'aurait donnée un recuit de « durée » : les variances s'ajoutent, , et : le modèle de la couche infiniment mince est excellent.
5) À température ambiante. ; en dix ans (), , mille milliards de fois moins que le diamètre d'un noyau : le profil est figé. On dessine les dopages à , et ils restent intacts toute la vie du circuit.
Ce que l'exercice installe. Une solution fournie se vérifie : équation, condition aux limites, quantité conservée. Elle ne dépend que de , d'où , l'additivité des et l'équivalence de la durée et de la température ; et l'ordre de grandeur, avant tout calcul, se lit sur .
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